전기직접쓰기 및 EHD 프린팅

TL-Trinity

정밀 마이크로/나노섬유 직접 쓰기 플랫폼

용융 전기직접쓰기, 근접장 용액 직접 쓰기 및 고전압 전기방사를 하나의 구성 가능한 플랫폼에서 결합하십시오. 정밀한 움직임, 재료 공급 및 공정 제어를 통해 정렬된 섬유 스캐폴드와 나노섬유 막을 연구하십시오.

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TL-Trinity

01

플랫폼 및 공정들

프로그래밍된 경로를 따르는 연속 섬유이미지 확대 ↗
프로그래밍된 경로를 따르는 연속 섬유

프로그래밍된 경로를 따르는 연속 섬유

직접 쓰기는 제어된 툴패스를 따라 연속적인 마이크로 또는 나노섬유를 배치하여 정렬된 2차원 또는 3차원 구조를 구축합니다. 동일한 좌표계는 재료 시스템, 증착 기하학 및 처리 모드 간의 변경을 지원합니다.

용융 전기직접쓰기이미지 확대 ↗
용융 전기직접쓰기

용융 전기직접쓰기

고전압 필드는 폴리머 용융물을 끌어당기고, 스테이지는 프로그래밍된 경로를 따라 섬유를 배치합니다. 용매 없는 공정은 정렬된 2D/3D 스캐폴드를 지원하며, 명시된 섬유 직경 범위는 1–100 μm입니다.

근접장 용액 직접 쓰기이미지 확대 ↗
근접장 용액 직접 쓰기

근접장 용액 직접 쓰기

용액 또는 복합 재료 시스템으로부터 연속적인 선과 곡선을 작성합니다. 유리 바늘은 직경 1–45 μm에 걸쳐 있으며, 액체는 0.01에서 99.9 mL/h로 공급됩니다.

고전압 전기방사이미지 확대 ↗
고전압 전기방사

고전압 전기방사

단일, 나란히 배치, 동축 또는 삼축 방사 노즐로 밀도가 높은 나노 및 마이크로섬유 막을 생산합니다. 필요한 섬유 구조에 따라 수집기 및 채널 구성을 선택할 수 있습니다.

소재, 구조 및 연구 응용 분야

모듈은 저온 생체 재료부터 고온 공학 폴리머까지 아우릅니다. 평면, 관형 및 곡면 표면에 있는 다층 구조를 포함하여 주문 제작된 미세섬유 지지체나 무작위 나노섬유 막을 연구할 수 있습니다. 이 플랫폼은 탐색적 연구, 공정 창 스크리닝 및 공동 연구 시설을 지원합니다.

  • 조직 공학: 힘줄, 연골, 뼈, 신경 및 근육 스캐폴드.
  • 관형 구조: 혈관, 기관 및 도관 연구.
  • 기능성 복합재: 압전, 전도성, 자성 및 입자 강화 시스템.
  • 상처 관리 및 약물 전달: 다공성 패치 및 약물 주입 구조.
  • 소프트 디바이스: 액정 엘라스토머 및 프로그래밍 가능한 액추에이션.
  • 하이브리드 바이오 제조: 하이드로겔, 세포, 전기방사 및 3D 프린팅.

적용 적합성 및 샘플 성능은 재료, 형상, 처리 환경, 후처리 및 검증에 따라 달라집니다.

02

프린트 헤드 및 공급 장치

세 개의 용융 프린트 헤드

저온 용융 헤드이미지 확대 ↗
저온 용융 헤드

저온 용융 헤드

상온–200°C. 5 mL 유리 시린지, 직접 고전압 연결 및 다양한 바늘 크기 선택 가능.

중온 용융 헤드이미지 확대 ↗
중온 용융 헤드

중온 용융 헤드

상온–300°C, 배럴과 팁에 별도의 가열 구역이 있습니다.

고온 용융 헤드이미지 확대 ↗
고온 용융 헤드

고온 용융 헤드

상온–400°C, 강철 또는 세라믹 배럴 사용 가능.

온풍 차폐 및 공압 공급이미지 확대 ↗
온풍 차폐 및 공압 공급
공압 공급용 공기 공급 장치이미지 확대 ↗
공압 공급용 공기 공급 장치

온풍 차폐 및 공압 공급

동심 구조의 온풍 실드는 고온 헤드의 25–120°C 외부 영역 가열을 제공하여 주변 환경의 영향과 조기 고화를 줄입니다. 공압 공급 방식은 3단계 압력 해상도를 제공하며 에어 펌프 또는 불활성 가스를 사용할 수 있습니다. 가스 및 실린더 구성은 선택된 설정에 따릅니다.

용융 전기직접쓰기

근접장 용액 직접 쓰기

저온 하이드로겔 쓰기이미지 확대 ↗
저온 하이드로겔 쓰기
냉각 스테이지이미지 확대 ↗
냉각 스테이지

저온 하이드로겔 쓰기

하이드로겔 헤드는 상온에서 약 37°C까지 작동하며, 선택적인 노즐을 사용할 수 있습니다. 100 × 100 mm 냉각 스테이지는 −4°C에 도달할 수 있습니다.

회전하는 나란한 방사 노즐이미지 확대 ↗
회전하는 나란한 방사 노즐
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회전하는 나란한 방사 노즐

회전하는 나란한 방사 노즐

이 옵션 헤드는 두 개의 용액 스트림을 인라인 방식으로 꼬아 복합 및 다성분 섬유를 연구합니다. 회전 속도는 1에서 100 rpm까지 디지털로 조절할 수 있습니다.

전기방사 방사 노즐 구성

코어-쉣, 나란히 배치 및 다층 섬유 구조는 각각 다른 채널 및 바늘 세트를 사용합니다. 최종 세트는 선택한 공정에 따라 지정됩니다.

현장 UV 경화 방식의 공압 쓰기이미지 확대 ↗
현장 UV 경화 방식의 공압 쓰기

현장 UV 경화 방식의 공압 쓰기

이 모드는 고전압을 사용하지 않습니다. 조절 가능한 공압 압출 장치가 프로그래밍된 경로를 따라 광경화성 재료를 증착하는 동시에 4개의 UV 램프가 현장에서 경화시킵니다. UV 파장, 출력 및 램프 형상을 구성할 수 있습니다.

03

수집기 및 관찰

파인 맨드릴 수집이미지 확대 ↗
파인 맨드릴 수집

파인 맨드릴 수집

Ø1–6 mm 만드렐; 맞춤형 직경도 가능합니다.

곡면 위 직접 쓰기

선택 사양 표면 스캔 및 추적 기능은 반구형 표면, 테이퍼형 맨드릴, 풍선 또는 관형 형상에 대해 공구 경로를 보상하면서 작업 거리를 유지합니다. 표시된 테이퍼형 예시는 길이가 10 cm이며, Ø5 mm와 Ø8 mm 구간의 5 cm을 가집니다.

가열식 수집기이미지 확대 ↗
가열식 수집기

가열식 수집기

상온에서 약 120°C까지, 유효 면적은 180 × 180 mm입니다.

냉각 스테이지이미지 확대 ↗
냉각 스테이지

냉각 스테이지

선택 사양 냉각 기능: −4°C에서 100 × 100 mm까지. 결로 방지 및 응결 방지 작동 조건은 10°C으로 지정됩니다.

실시간 제트 관찰이미지 확대 ↗
실시간 제트 관찰
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실시간 제트 관찰
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실시간 제트 관찰

실시간 제트 관찰

조정 가능한 초점은 섬유 인장 및 제트 거동을 기록하는 데 도움이 됩니다. 카메라 뷰 및 관찰 구성은 프린팅 공정 검토를 지원합니다.

04

모션 및 소프트웨어

정밀 모션 아키텍처

화강암 베이스는 X/Y 선형 모터와 Z 서보 드라이브를 지지합니다. 상부 X축과 하부 Y축은 각각 최대 200 mm/s의 속도로 180 mm 이상 이동하며, 위치 결정 정확도는 ±2 μm입니다. Z축 이동 범위는 80 mm 이상이며, 최대 속도는 50 mm/s입니다.

4채널 프로그래밍 가능 가열이미지 확대 ↗
4채널 프로그래밍 가능 가열

4채널 프로그래밍 가능 가열

독립 채널은 가열 및 수집기 온도를 조정합니다. 개별 체류 시간을 갖춘 4단계 온도 램프는 재료의 열 이력 제어를 돕습니다. 소프트웨어는 열전대 상태를 표시하고 개별 출력 전환을 제공합니다.

  • CH 01: 상온–150°C; 4단계 온도 램프
  • CH 02: 수집기 플레이트 온도 제어
  • CH 03: 상온–400°C
  • CH 04: 상온–300°C

압력 및 듀얼 채널 액체 공급

터치스크린에서 0.1, 0.01 또는 0.001 MPa의 선택 가능한 해상도로 입구 압력을 설정하십시오. 듀얼 채널 액체 공급은 0.01–99.9 mL/h를 지원하며 10 mL 또는 20 mL 시린지를 사용할 수 있습니다.

공정 및 모션 제어를 위한 두 개의 디스플레이이미지 확대 ↗
공정 및 모션 제어를 위한 두 개의 디스플레이

공정 및 모션 제어를 위한 두 개의 디스플레이

열 및 공정 설정은 이동 실행과 함께 계속 표시됩니다. G-코드를 한 줄씩 실행하는 동안 공구 경로, X/Y/Z/A 위치 및 이송 상태를 확인할 수 있습니다. 제어 플랫폼은 EdingCNC 및 CNC4.03 소프트웨어를 사용합니다.

설계 파일에서 실행 가능한 공구 경로까지

2D 및 2.5D CAD 형상 또는 3D STL 모델을 가져옵니다. 사진, 스캔, 스케치 및 디지털 도면을 경로로 변환합니다. CAD 모델 없이 매개변수 그리드를 생성한 다음 경로, 속도 및 프린팅 매개변수를 편집합니다. G-코드를 생성하기 전에 형상, 영역 또는 세그먼트별로 속도를 할당합니다.

템플릿, 시뮬레이션 및 배치 프린팅이미지 확대 ↗
템플릿, 시뮬레이션 및 배치 프린팅

템플릿, 시뮬레이션 및 배치 프린팅

그리드 및 튜브형 템플릿은 구조 및 공정 파라미터로부터 기하학적 구조를 생성합니다. 프린팅 전에 경로를 시뮬레이션하고 개선할 수 있습니다. 파라미터 스윕은 여러 설정 및 기하학적 구조를 실행하며, 예열 구역은 목표 경로가 시작되기 전에 흐름을 안정화합니다. 적층된 기하학적 구조는 각 전환 시 별도의 예열을 포함할 수 있습니다.

  1. 01격자 또는 튜브 선택
  2. 02구조 및 공정 파라미터를 설정하십시오
  3. 03시뮬레이션 및 개선
  4. 04G-code 내보내기 및 인쇄

05

스캐폴드 및 샘플

관형 스캐폴드 워크플로우

매개변수 모델은 수동으로 한 줄씩 그리지 않고 축 방향 또는 교차 격자 경로를 생성합니다. 회전, 섬유 각도, 간격 및 층 수가 스캐폴드 기하학적 구조를 정의하며 다공성, 유연성 및 기계적 반응에 영향을 미칩니다.

프로그래밍된 경로, 다양한 샘플 형상

적용 적합성 및 샘플 성능은 재료, 형상, 처리 환경, 후처리 및 검증에 따라 달라집니다.

섬유 적층 및 교차 미세구조

교차 지점, 섬유 융합 및 층간 오프셋을 검사하여 공정 창을 최적화하십시오. 스케일 바는 개별 현미경 사진에 해당합니다.

06

사양 및 구성

항목사양
용융 헤드 온도 옵션상온에서 약 200 / 300 / 400°C까지
이중 채널 액체 공급0.01–99.9 mL/h
액체 공급 시린지 크기10 / 20 mL
유리 바늘 직경1–45 μm
X/Y 이동 거리, 각 축별>180 mm
최대 X/Y 속도200 mm/s
X/Y 위치 결정 정확도±2 μm
Z축 이동 거리 / 최대 속도>80 mm / 50 mm/s
회전 드럼Ø76 × 150 mm
X–Y 평판 수집기200 × 200 mm
파인 맨드릴 수집Ø1–6 mm
회전 수집 속도0–600 rpm
가열식 수집기: 온도 / 면적상온에서 약 120°C / 180 × 180 mm까지
선택 사양 냉각: 온도 / 면적−4°C / 100 × 100 mm
선택 가능한 압력 해상도0.1 / 0.01 / 0.001 MPa

최종 사양은 확정된 구성을 따릅니다. 모듈을 선택하기 전에 재료의 열 이력, 목표 섬유 스케일, 샘플 기하학, 수집 방법, 환경, 후처리 및 검증 방법에 대해 논의하십시오.

통합 안전 기능

이러한 기능은 실험실 위험 평가, 재료 호환성 검토 및 규정 준수 운영 절차와 함께 작동합니다.

사용자의 재료 및 목표 구조에 맞는 구성

핵심 연구 플랫폼

세 가지 섬유 처리 모드, 고정밀 이동 플랫폼, 표준 프린트 헤드 및 평판 수집기, 제어 소프트웨어 및 안전 기능.

소재 관련 옵션

저온, 중온 또는 고온 용융 헤드, 불활성 가스 공급, 저온 하이드로겔 헤드 및 UV 경화.

형상 관련 옵션

회전, 가열 또는 냉각되는 수집기; 곡면 스캐닝 및 추적; 동축, 나란히 또는 삼축 방사 노즐; 그리고 회전 트위스팅 헤드.

제작하고자 하는 것을 알려주세요.

소재, 목표 구조 및 샘플 크기를 공유해 주시면 적합한 플랫폼과 구성을 논의할 수 있습니다.

응용 분야 상담