TL-EHD

統合プリンティングとプロセス制御

電圧波形が液滴の放出と堆積を制御します。4台のカメラビューがクローズドループのモーションコントロールと連携し、パターンインポート、描画、パラメトリック編集によって、意図した形状を印刷パスに変換します。

近接場液滴プリンティング

ノズル先端は、基板から数十から数百マイクロメートルの位置で動作します。電界が個々の液滴を所定の位置に噴出します。同期された動きと噴射によって、隣接する堆積物が重なり合い、線や複雑なパターンが形成されます。

機械アーキテクチャ

全4方向からのアクセスにより、サンプルの装填、メンテナンス、およびアップグレードがサポートされます。大理石製のベースが精密モーションシステムを支えます。2つの大型ディスプレイで、モーション、カメラビュー、波形、および信号フィードバックを表示します。システム寸法：1613 × 908 × 724 mm。概算重量：500 kg。

調整可能な高電圧出力

0から2000 Vまでのデジタル制御・プログラム可能な出力。出力電流は0から10 mAまで連続的に調整可能です。

デジタルオシロスコープによるモニタリング

デュアルチャンネルUSBオシロスコープは、プロセス調整中の電圧とパルスを監視します。アナログ帯域幅：50 MHz。サンプリングレート：最大200 MSa/s。感度：10 mV/div～2 V/div。入力範囲：−100 V～+100 V（DC + AC）。

マイクロスケールノズルおよびホルダー

ノズルサイズは1から100 μmの範囲です。インクの粘度と目標パターンに合わせて内径を選択してください。一般的に、内径が小さいほど低粘度のインクに使用されます。専用ホルダーにより、ノズルを流体供給システムに接続できます。

手動切り替え可能なデュアルプリントヘッド

2つのマイクロスケールノズルが、同時または交互の運転をサポートします。各ノズルは独立したX–Y–Z調整機能を備えています。複数の観察ビューにより、アライメントとプロセス中の検査が容易になります。

精密シリンジによるインク供給

流量：0.01 μL/h～99.9 mL/h。流体粘度：300–5000 cP。対応シリンジ容量：1、10、および20 mL。ルアーチップ付きステンレス鋼製ニードルは、インクに適した内径を選択して使用します。

真空チャックおよび基板マウンティング

マルチリングの金メッキ真空チャックは、1、2、3、および4インチのシリコンウェハーに対応します。レベル調整が可能で、高電圧運転のための電気絶縁も提供します。静音のデュアルチャネル真空ポンプは、サンプルの保持と交換のための調整可能な吸引を提供します。

365 nm UV硬化

硬化を印刷と独立して、または同期して制御できます。プログラム可能な硬化は、パスに沿って順次または同期的に実行されます。光源はZ軸とともに移動し、ノズルに対して微調整が可能です。4つの横方向操作位置を保存して呼び出すことができます。

カメラとプリントヘッドの位置決め

各タスクに必要なカメラアングルを選択してください。カメラとノズルの位置は、X、Y、Z軸で独立して調整でき、光学系とプリントヘッドの間には適切な電気的クリアランスが確保されています。

パターンベースのプリンティングソフトウェア

Gコードを手動で記述することなく、パターンの編集、ツールパスの表示、動作状況の監視が可能です。本ソフトウェアはモーションコマンドを生成・実行し、クローズドループフィードバックによるX–Y–Z位置をリアルタイムで表示します。

距離に基づくジェット噴射の同期

距離トリガー噴射は、噴射座標と液滴間隔を移動速度に連動させます。コーナー補正により、速度変化時でも線幅の均一性を維持できます。経路計画には、速度に基づくコーナーの丸め処理とリードイン移動が含まれます。

ファイルインポートとジョブ管理

パターンをインポートし、プロセスパラメータを設定し、モーションを実行するまでを一つのワークフローで実行できます。ジョブキューとグローバルパラメータのバックアップにより、再利用や意図しない変更後の復元がサポートされます。

パラメトリック描画とスクリプティング

点、線、円、弧、楕円、長方形、ポリラインを描画します。中国語または英語のテキスト、バーコード、QRコードを追加できます。

8種類の充填戦略には、ライン、クロスハッチ、サーペンタイン、サンドイッチ充填が含まれます。グリッド、円形アレイ、標準パターンは、ツールパスのリアルタイム表示を伴うパラメトリック編集に対応します。

スクリプト機能は、ループ、条件分岐、変数、三角関数をサポートし、さらにCADおよび3D形状の寸法測定も可能です。

インターデジテート電極パターン

2組の電極フィンガーが交互に配置され、ギャップによって隔てられています。模式図と顕微鏡写真には、全体の形状と局所的な詳細が示されています。画像内のスケールバーをご参照ください。

複雑なテキストと2Dマイクロパターン

中国詩の例は、緻密なパターンと複雑な筆跡を実行可能なツールパスに変換する様子を示しています。顕微鏡検査により、全体の形状、線の接続、および局所的な堆積が確認できます。